ASML e o desafio da litografia EUV High-NA: o TWINSCAN EXE:5200B abre uma nova era na fabricação de chips.
A indústria de semicondutores enfrenta um futuro promissor com o avanço da litografia. A ASML, líder no setor, apresentou seu ...
Etiqueta: HighNA
ASML e a revolução da litografia EUV: das lâmpadas de mercúrio ao salto High-NA
No coração de cada dispositivo digital — desde telefones móveis até supercomputadores que treinam inteligência artificial — está um protagonista ...
Intel confirma que o nó 14A será mais caro que o 18A pelo uso de EUV High-NA: risco ou aposta estratégica?
Intel Confirma Que Nuevas Tecnologías de Fabricación Aumentarán Costos de Producción de Chips A companhia Intel anunciou oficialmente que o ...
Intel acelera com EUV High-NA e já produziu 30.000 wafers em apenas três meses
Intel avança com novas tecnologias em sua fabricação de chips Intel deu um passo significativo em sua busca para recuperar ...
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