Dai Nippon Printing (DNP) inova com nanoimpressão na fabricação de chips
A corrida para o desenvolvimento dos nós mais avançados na fabricação de semicondutores está centrada na litografia ultravioleta extrema (EUV), que se tornou um gargalo caro e energeticamente exigente. No entanto, a empresa japonesa Dai Nippon Printing (DNP) deu um passo significativo ao apresentar uma nova tecnologia: uma matriz para litografia por nanoimpressão (NIL) capaz de transferir padrões com linhas de apenas 10 nanômetros. Segundo DNP, essa inovação está alinhada com processos de produção equivalentes à geração de 1,4 nanômetros, com previsão de fabricação em massa até 2027 e uma meta comercial de vendas de NIL que poderia atingir até 4.000 milhões de ienes no exercício fiscal de 2030.
A DNP não está sozinha nessa empreitada. A Canon, também do Japão, anunciou recentemente o envio de seu primeiro equipamento comercial, o FPA-1200NZ2C, para o Texas Institute for Electronics (TIE). A Canon afirma que sua tecnologia de nanoimpressão oferece vantagens em termos de menor consumo de energia e custos reduzidos em comparação com métodos de exposição convencionais.
Essas inovações têm atraído a atenção do mercado financeiro, uma vez que a indústria de semicondutores é influenciada por investimentos de capital, custos operacionais e riscos relacionados ao desempenho. A utilização de NIL, que promete reduzir o consumo energético a uma décima parte de processos existentes como EUV e ArF immersion, poderia não apenas significar uma diminuição nos gastos elétricos, mas também uma menor dependência de maquinários EUV para determinadas camadas de chips.
Apesar das promessas, a realidade da fabricação em larga escala apresenta desafios significativos. Questões como a introdução de defeitos devido a contaminações ou desgaste do molde, a durabilidade das matrizes e a precisão de alinhamento entre camadas são preocupações que precisam ser abordadas antes que a NIL possa ser considerada uma alternativa viável à EUV em linhas de produção.
A curto prazo, a NIL deve ser vista como uma tecnologia complementar à EUV, e não como uma substituta direta. Se a DNP e a Canon conseguirem superar os obstáculos de produção em massa, as repercussões no setor podem ser significativas, com uma possível redução na pressão de investimento em tecnologias EUV, menores custos de energia e maior capacidade de negociação para as foundries.
Enquanto isso, os investidores e analistas estarão atentos às próximas etapas, especialmente o envolvimento de foundries na validação da NIL em camadas específicas, a formação de acordos de fornecimento e quaisquer resultados comprovados que demonstrem a viabilidade econômica da nova tecnologia. O futuro da litografia avançada poderá, assim, ser moldado por essa aliança entre DNP e Canon, visando enfrentar os desafios atuais de custo e eficiência energética na fabricação de chips.
